是那種暗暗的標記，自己人能夠看得出來，但外界攻擊的人看不出來。

可是蘇修的技術仔仔細細的觀察了好幾遍，都冇有發現類似的痕跡，由此可

見，對方是真的冇有這種心思。

而最後還是蘇修說出了自己的想法。

“要我說，DL公司是一個十分驕傲的公司，他們不可能想著自已的內網居然會

被外人攻破，因此這些錯誤的，估計真的就是他們盜來了，或者自己研究出的一些

錯誤的結果了。”

大家聽聞此言都點了點頭。

“那就這樣吧，大家把這些技術和項目成果分彆整理一下，然後篩選出來，目

國內最需要的幾個，先進行研究和確認真假性，如果可以的話，儘早將技術成果應

用到具體領域！

楊老最後直接拍了板，而大家都是點了點頭，都同意了這一點

蘇修也在這裡幫著忙，畢竟他對於技術領域也有一些自己的見解.

而很快大家就將其分類整理，最後總結出了幾項國內最急需的技術。

“這是光刻機關鍵結構圖紙，以及具體結構的具體設計製造方法，我覺得應該放

在第一點，畢竟國內的光刻機確實需要儘快加緊了。”

一位學術大佬看向大家，而大家也都是紛紛點頭同意這一點。

畢竟光刻機確實是十分重要的技術存在。

它是半導體製造領域王者級彆的存在，裡麵幾乎蘊含著目前人類最尖端的科技

技術在裡麵。

它最大的作用就是能夠把電子器件的圖形模式轉移到矽片上麵，從而大量穩定

科學精準的製造半導體器件。

對於光刻機的研究，國內其實也已經有了具體的成果，但隻不過效能方麵和國

際頂尖的光刻機有差距。

光刻機最重要的部件，主要有：掩模（Mask）光源（LightSource），投影光

學係統，遮光板，矽片，台座係統，曝光控製係統，自動對準係統這些構成。

而目前，國內在前幾個部件的方麵已經冇有任何問題了，製造出來的成品效果

已經能夠趕得上國外的技術了。

唯一欠缺的主要是之後的台座係統，曝光控製係統，還有0.8自動對準係統這三

個係統部件，有著差距。

而現在，這份獲取來的技術已經成功打破了這份差距。

“之所以選光刻機這項技術作為最先研究的方向之一，也是因為咱們目前正在進

行的機動裝甲研究項目裡麵，關於主控晶片以及各個方向的輔助控製晶片，自前都

不太能夠達到預期成果。

所以得有著這項技術才能夠讓我們進行自研製造。”

蘇修又補充的解釋了一下，而大家紛紛點頭。

蘇修這邊也在一直抓著機動裝甲項目組的研究進度，而根據他與多個項目組的

溝通，現在機動裝甲研究組的成果已經大大向前推進了。

各個部件的初步構建已經完成，唯一需要頭疼的就是控製晶片

晶

道

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